1996年8月,荷兰,埃因霍温,ASML总部。
一辆不起眼的黑色轿车,驶入ASML总部园区。
车里坐着两位西装革履的中年亚洲男子,他们是某家港城注册、背景模糊的电子工程咨询公司的代表。
前台查验了预约函,礼貌地引导他们前往一间小型会议室。
会议室内,ASML派出了一位负责亚太区技术合作的经理,以及一位专利分析师。气氛客气而疏离。
对于这家名不见经传的咨询公司,ASML并未给予太高规格的重视。
“......我们受一家客户的委托,希望了解贵公司在193nm ArF干式光刻机,后续演进路线上的技术规划,特别是关于在投影物镜与晶圆之间,引入高折射率介质以提升分辨率,这一技术方向的相关专利布局情况。
咨询公司代表操着流利的英语,开门见山,语气专业而克制。
ASML的两位代表对视一眼,眼中闪过一丝不易察觉的疑惑和警觉。
“抱歉,关于具体的技术路线规划,属于公司核心机密,不便对外透露。”技术经理礼貌地回绝道。
“至于您提到的引入高折射率介质......这一方向,据我所知,业界目前尚无成熟的研究成果。
贵方客户是否有特定的技术方案可以提供?我们可以探讨合作的可能性。”
“我们客户在相关领域有一些初步的研究积累,并已提交了部分专利申请。”
咨询公司代表微微一笑,从公文包中取出一份薄薄的,不包含任何具体技术细节的清单。
“在正式探讨合作之前,我们希望先了解一下,贵公司在该领域的专利布局情况,以避免潜在的侵权风险。
这是我们的专利清单摘要,供贵方参考。”
ASML的专利分析师接过清单,目光快速扫过几行标题。
起初,他的表情还算轻松。但当他看到几个关键专利的名称,和优先权日期时,他的脸色,瞬间变得凝重起来。
"Priority date: 1993......1994......1995......”他低声念着,声音带着一丝难以置信,"Immersion lithography apparatus and method......High refractive index fluid delivery system for projection lens......Te
mperature control mechanism for immersion medium......"
这些专利的申请时间,竟然比ASML内部,任何关于浸没式的初步讨论记录,都要早上数年!
而且,专利的权利要求范围,撰写得极其老辣,几乎覆盖了浸没式光刻从原理、结构到工艺控制的每一个关键环节!
“请问,贵方客户......是哪家公司?”ASML技术经理的语气,再也无法保持之前的从容,带上了一丝不易察觉的紧迫。
“抱歉,在双方达成初步合作意向之前,我们客户的名称,需要保密。”咨询公司代表站起身,礼貌地欠了欠身。
“感谢贵方的接待。我们会将今天的交流情况,向客户汇报。期待后续进一步的沟通。”
说完,两位代表便转身离开了会议室,留下ASML的两位代表,面对着那份薄薄的专利清单摘要,面面相觑,脸色阴沉得能滴出水来。
他们意识到,一个潜在的,足以颠覆现有光刻技术路线的巨兽,可能已经悄然浮出水面。而他们对此,几乎一无所知。
同一天,美国,加州圣克拉拉,Applied Materials (应用材料)总部。
几乎相同的一幕,正在上演。只不过,这次咨询公司代表关注的焦点,是用于半导体制造的原子层沉积(ALD)设备和工艺的相关专利。
而在大洋彼岸的龙国魔都,那间不起眼的渊基地深处,秦师傅正带着一群老伙计,围着一台刚刚组装完成的,闪烁着金属冷光的精密工件台原型机,进行着最后的调试。
伺服电机发出低沉的嗡鸣,气浮导轨上的滑块,以肉眼几乎无法察觉的精度,进行着微米级的往复运动。
在千里之外的京城星火基地,计算光刻联合实验室的服务器阵列,正满载运转,指示灯如星河般闪烁。
一行行优化后的代码,正在试图驯服那狂暴的光学衍射效应。
在更隐秘的,只有谢建军和极少数核心成员才知道的,烛照计划办公室里,一份份精心撰写的,覆盖了EUV光刻、多层反射镜、以及下一代光刻胶等更远期技术方向的防御性专利申请文件,正在被逐字逐句地审核、定稿。
潜龙,仍在深渊之中,默默积蓄着力量。
但风云,已经开始涌动。
大洋彼岸的巨人们,已经嗅到了一丝来自东方的、令他们不安的气息。
一场真正的、决定未来数十年,全球半导体产业格局的较量,正在悄然拉开序幕。
1996年9月,荷兰,埃因霍温,ASML总部,高层紧急会议。
会议室的窗帘拉得严严实实,隔绝了窗外明媚的阳光。
空气里弥漫着浓烈的咖啡味,和一种压抑到令人窒息的沉默。
长桌两侧,坐着ASML的CEO、CTO、首席知识产权官以及几位核心董事。
每个人面前的桌上,都摆着一份薄薄的,但内容足以让他们寝食难安的文件夹,那是关于那家神秘的港城咨询公司,及其背后客户提交的浸没式光刻专利清单的初步分析报告。
“先生们,我需要一个准确的判断。”CEO,一位头发银白、气质沉稳的荷兰人,打破沉默,声音低沉而严肃的说道。
“这些专利,到底是某个竞争对手放出的烟雾弹,用来扰乱我们的研发方向?还是......真的有某个我们尚未察觉的实体,已经在这个领域,走到了我们前面?”
CTO是一位戴着厚厚眼镜、发际线后退的中年人,他揉了揉眉心,语气凝重的说道。
“从专利撰写的专业水平,和权利要求覆盖的广度来看......,这不像是烟雾弹。
撰写这些专利的人,对这个技术方向的理解,非常深入,甚至......比我们内部的某些预研报告还要超前。”
“特别是关于浸没液体的温控,和流体动力学设计,以及防止气泡产生,和污染物侵入的密封结构......,这些细节,没有实际的实验验证,和深入的工程思考,是写不出来的。”
“能查到申请人的真实身份吗?”首席知识产权官问道。
“很难。”负责调查的专员摇头说道:“这些专利通过至少三层离岸壳公司持有,注册地分别在开曼群岛,英属维尔京群岛和卢森堡。
最终受益人,被层层迷雾遮挡。我们动用了在荷兰和海牙的专利律师网络,也只能查到这些专利的代理机构,是一家位于瑞士日内瓦的、以保密著称的精品律所。”
“这家律所的客户名单,从不对外公开。”
“瑞士......港城…………开曼......”CEO的手指,轻轻敲击着桌面,眼神锐利:“这种布局手法,不像是一般的科技公司。
更像是......某个国家的国家队在操盘。'
他抬起头,目光扫过在场的每一个人:“先生们,我们可能遇到真正的麻烦了。
如果这些专利背后,真的是龙国政府支持的某个实体,而且他们已经在这个方向上,布局了至少三到五年.......那么,我们引以为傲的193nm ArF干式光刻路线,可能还没到巅峰,就已经面临着被抄后路的风险。'
会议室里,一片死寂。所有人都明白CEO话里的分量。ASML之所以能从尼康佳能等老牌光学巨头的围剿中,杀出一条血路,靠的就是对技术路线的精准判断,和近乎偏执的研发投入。
但如果有一条他们未曾充分重视的捷径,已经被别人提前用专利砌起了高墙......那后果,不堪设想。
“我建议,立刻启动紧急预案。”CTO沉声道:“第一,集中我们最精锐的专利和法律团队,对这些浸没式专利进行最彻底的无效化分析,和绕过设计评估。”
“第二,秘密组建一支浸没式光刻的快速攻关团队,不计成本,在最短时间内,搭建原理验证机。
我们要亲自验证,这条路到底有多宽,有多远。’
“第三,”他顿了顿,看向CEO说道:“动用一切可以动用的情报和商业资源,给我查出这些专利背后,到底是谁!”
CEO沉默片刻,缓缓点了点头道:“同意。立刻执行。”
“另外,”他补充道,目光变得深邃:“派人,去一趟宝岛。宝积电的林本艰博士,我记得他几年前在一次内部研讨会上,曾经模糊地提到过,类似用水做镜头的想法。
虽然当时被认为是天方夜谭......但现在看来,也许,我们错过了什么重要的信号。”
会议在一片凝重中结束。ASML这部庞大的机器,开始以前所未有的高速运转起来。
一股无形的暗流,开始从埃因霍温,涌向全球半导体产业的每一个角落。
而此时,在魔都那间不起眼的“渊”基地深处,秦师傅正戴着老花镜,用百分表,一点一点地校准着,那台精密工件台的导轨平行度。
误差,已经控制在了令人发指的0.1微米以内。他对大洋彼岸正在发生的这场风暴,一无所知,也并不关心。
他只知道,手里的活儿,还得再细一点,再精一点。
潜龙在渊,风云渐起。
而真正的较量,才刚刚开始。
1996年10月,宝岛新竹,宝积电研发中心。
一间不算宽敞、堆满了光学图纸,和实验设备的办公室里,一位戴着厚厚眼镜、头发略显蓬乱、穿着普通格子衬衫的中年人,正盯着面前一台老式光学显微镜的目镜,眉头紧锁。
他就是林本艰,宝积电资深处长,一位在光学微影领域沉浸了二十余年的“技术狂人”。
他正在为一个棘手的问题而苦恼。随着制程节点向0.18微米、0.13微米迈进,传统248nm KrF光刻机的分辨率,已经逼近物理极限。
宝积电正在与ASML、尼康等厂商合作,积极推进193nm ArF干式光刻技术的量产化。
但林本坚心里清楚,193nm干式光刻,也只是权宜之计。光的衍射效应,就像一堵无形的墙,挡在了通往更先进制程的道路上。
要想继续前进,要么,采用更复杂、更昂贵,遥遥无期的极紫外(EUV)技术,要么,就是寻找某种旁门左道,突破这堵墙。
“如果......在镜头和晶圆之间,不是空气,而是某种折射率更高的液体呢?”
一个在他脑海中盘旋了数年的,近乎异想天开的念头,再次浮现。
他拿起笔,在一张草稿纸上,快速地画起光路示意图,并写下几行计算公式。
理论上,如果用水,折射率约1.44,代替空气,折射率1,193nm激光的等效波长,可以缩短到大约134nm!
这意味着,不需要开发新的光源,仅仅改变光传播路径上的介质,就能实现分辨率的大幅提升!
这个想法,他几年前在一次内部技术研讨会上,曾经模糊地提过一次。
但当时大多数人,包括他自己,都觉得过于大胆,甚至有些离经叛道,会后也就不了了之。
但最近,一些隐约的风声,让他重新拾起了这个念头。
他听说,荷兰ASML那边,似乎在秘密调查一批,关于浸没式光刻的神秘专利;而业界也流传着一些,关于“某个东方实体,可能在相关领域有所布局”的传闻。
“难道......真的有人,把这个想法,做出来了?”林本坚喃喃自语了起来,眼中闪过一丝复杂的情绪。
有惊讶,有好奇,也有一丝难以言喻的失落和紧迫感。
他放下笔,站起身,在狭小的办公室里踱了几步。然后,他做出了一个决定。
他拿起电话,拨通了ASML一位相熟的技术高管的号码。
“喂,我是林本艰。关于上次你提到的那个技术咨询的事情......,我想,我们可能需要当面谈谈。”
几天后,林本艰以技术交流的名义,低调访问了ASML总部。在那间曾让ASML高层,感到不安的小型会议室里,他与ASML的CTO和首席知识产权官,进行了一次长达三个小时的闭门会谈。
他没有隐瞒自己的想法,将自己关于“浸没式光刻”的理论推演,和初步构思,和盘托出。
ASML方面,则在极度保密的前提下,向他展示了那批神秘专利的部分摘要内容,不涉及具体申请人信息。
当林本坚看到那些专利的优先权日期,和权利要求范围时,他沉默了。
他意识到,自己脑海中那个盘旋多年的,被视为天方夜谭的想法,不仅有人想到了,而且已经付诸实践,并筑起了令人望而生畏的专利壁垒。
领先的时间,可能长达三年以上......
“林博士,您是这个领域公认的顶尖专家。”ASML的CTO,语气诚恳而带着一丝焦虑的说道。
“我们希望能与您,与宝积电,建立更紧密的合作关系。共同应对这个......未知的挑战。”
“如果,我是说如果,这些专利的背后,真的是一个我们尚未完全了解的强大对手,那么,单凭任何一家公司的力量,可能都难以抗衡。我们需要联合起来。”
林本坚没有立刻回答。他端起面前早已凉透的咖啡,喝了一口,感受着那苦涩的滋味在舌尖化开。他脑海中,无数念头在激烈碰撞。作为一名毕生致力于光刻技术突破的科学家,他本能地为有人提前实现了他的构想而感到某
种复杂的情绪;但作为一名台积电的高管,他更清楚,这项技术一旦成熟,将对整个半导体产业格局产生何等深远的影响。
“我需要时间,考虑一下。”最终,他缓缓说道。
离开ASML总部时,埃因霍温的天空,飘起了细雨。林本坚坐在车里,望着窗外朦胧的景色,心中却比来时,更加波澜起伏。
他隐约感觉到,一场足以改变全球半导体产业权力格局的风暴,正在悄然酝酿。而他,以及他身后的台积电,正站在一个必须做出选择的十字路口。